什么是垂直聚焦探测?
垂直聚焦探测(VFP)是以使用部分光锥为基础的。从垂直表面漫反射的个别光线被镜头捕捉。超过90°的侧翼可以被可追溯地、可重复地和高分辨率地测量。以这种方式测量的垂直面可用于,例如拟合工件坐标系。
到目前为止,诸如汽车工业中的注射阀孔等几何形状很难用光学方法测量。对具有垂直表面的部件进行横向探测仅限于触觉测量系统、CT解决方案或复杂的定制解决方案。这种情况在垂直焦点探测中得到改变:基于面积测量,可以对整个表面的部件进行光学探测。
陡于90°的坡度的表面测量
垂直聚焦探测是基于对部分光线的使用。除了同轴光之外,还使用了来自不同方向的光。因此,从垂直表面漫反射的个别光线被物镜再次捕获,从而能够以高分辨率对超过90°的侧面进行可追踪和可重复的测量。
反射光线的比例有多高,取决于待测表面的几何形状和粗糙度,以及使用的光源。物镜也起着一定的作用,因为根据其直径,物镜也可以捕捉到来自表面的反射光,这些表面的侧面比90°更陡峭。这就是数值孔径(AN)发挥作用的地方,它由物镜直径和工作距离决定。它影响到一个表面的可测量的坡度仍能超过90°的程度。
垂直聚焦探测和聚焦变异的区别
垂直聚焦探测与聚焦变化一样,都是基于对待测表面的垂直扫描。焦点信息曲线是针对每个位置进行评估的。与聚焦变化法不同的是,在垂直聚焦测量法中,每个测量点(XY)不仅要计算一个,而且要计算多个Z值。这些Z值代表垂直表面。